Sprzęty

Sprzęty

Litografia optyczna
  • SÜSS MicroTec Mask Aligner MA8/BA8 
  • Heidelberg Instruments µMLA Tabletop Maskless Aligner 
  • Spincoatery (SÜSS RCD8, Laurell WS-650) 
  • Moorfield MiniLab 060 (rozpylanie magnetronowe) 
  • Moorfield MiniLab 080 (parowanie wiązką elektronową) 

Sentech SI 500208 (materiały: SiO2, Si3N4) 

Beneq TFS 200 (materiały: Al2O3, ZnO) 

  • Sentech SI 500 206 (ICP-RIE, gazy: Ar, O2, SF6, CF4, CHF3, C4F8) 
  • Sentech SI 500 207 (ICP-RIE, gazy: Ar, O2, SF6, CF4, SiCl4, BCl3, Cl2) 
  • TePla GIGAbatch 310M (czyszczenie plazmowe, gazy: O2, CF4) 
  • Diener Zepto (czyszczenie plazmowe, gazy: O2, Ar) 
  • RTP AS-One 150 (szybka obróbka termiczna) 
  • Suszarki laboratoryjne: Binder FD53, Binder FD56 
  • Płyty grzewcze (SÜSS HP8, EMS 1200-1HT) 

XTPL Delta Printing System 

  • Mikroskopy inspekcyjne: Leica DM 4000, Leica DM 8000,  Keyence VHX-7000 
  • Bruker DektakXT (profilometr stykowy) 
  • Bruker ContourGT (profilometr optyczny) 
  • Sentech SE850 DUV (elipsometr spektroskopowy) 
[ninja_form id=17]

This will close in 0 seconds

This will close in 0 seconds